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鉭摻氮化硼靶材（Ta-BN）産品概略正版四不像必中一肖图2020年001期

高純鉭濺射靶材普遍運用於電子信息産品制作業中，鉭可作為集成電路中銅與矽基板的阻隔層材料,以避免銅與矽分散生成銅矽郃金影響電路機能，采取鉭靶材經過物理氣相堆積技術濺射鉭到矽片上。攙雜的氮化硼薄膜具有、介電常數小、寄生電容小、任務溫度高、抗高能粒子輻射、耐侵蝕等長處,且材料的擊穿電壓較高,使得器件更合適在低溫、強輻射等卑劣情況下穩固任務。